GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法
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- 标准类型：国家标准
- 标准语言：简体中文
- 授权形式：免费标准
- 文件类型：PDF格式
- 安全检测：瑞星、江民、卡巴、可牛：安全
- 更新时间：2015-10-11
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资料介绍
标准编号：GB/T 19922-2005
中文名称：硅片局部平整度非接触式标准测试方法
英文名称：Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
标准介绍：
本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。