GB/T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
- 文件大小：2.8 MB
- 标准类型：国家标准
- 标准语言：简体中文
- 授权形式：免费标准
- 文件类型：PDF格式
- 安全检测：瑞星、江民、卡巴、可牛：安全
- 更新时间：2015-10-10
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- 标签：硅片
资料介绍
标准编号：GB/T 29505-2013
中文名称：硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
英文名称：Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer
标准介绍：
本标准提供了硅片表面粗糙度测量常用的轮廓仪、干涉仪、散射仪三类方法的测量原理、测量设备和程序,并规定了硅片表面局部或整个区域的标准扫描位置图形及粗糙度缩写定义。
本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量;也可用于其他类型的平坦晶片材料,但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量。
本标准不适用于带宽空间波长≤10nm 的测量仪器。